（原标题：俄罗斯，死磕光刻机）

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俄罗斯芯片行业的发展并非一帆风顺。

早在2013年，俄罗斯超等磋议机制造商T-Platforms就因时代出口问题遭到好意思国封禁。为了解脱对好意思国X86平台的依赖，俄罗斯启动押注MIPS和ARM架构，蛊卦了专注处理器研发的公司——Baikal Electronics。

关联词，受限于俄罗斯自身的芯片制造才能，Baikal的处理器只可依赖台积电代工。2021年，好意思国对俄罗斯实施新一轮制裁，导致Baikal的芯片出产筹办全面受阻。底本筹办在2022年和2023年渐渐量产的Baikal-S也因此停摆。更为严重的是，部分已出产的芯片因制裁无法请托俄罗斯，这无疑是雪上加霜。

最终，在多重压力下，Baikal Electronics于2023年晓示停业，这款俄罗斯芯片似乎注定难逃短寿的荣幸。

关联词，近日Baikal-S的回首让这一切再行燃起但愿。

Baikal-S处理器芯片

尽管其16nm工艺无法与刻下的5nm、3nm时代比较，但Baikal-S在某些特定领域依然达到了实用水平，足以得志中低端功绩器和特定工业行使的需求。

关于俄罗斯而言，这款处理器的价值不仅在于时代性能，而更在于其标记酷爱。

正如许多东谈主所说，“有些东西，唯有是我方的，才用得宽心。”

家喻户晓，在海外半导体产业链中，融合是罢了时代打破的首要门路。关联词，受制于制裁和地缘政事身分，俄罗斯难以像其他国度那样通过海外融合罢了时代飞跃。这意味着，俄罗斯必须在有限的条款下独处发展相关时代。

除了芯片以外，光刻机看成芯片制造中的要害中枢，其时代复杂度和精密程度决定了芯片的制造才能。在这个领域，荷兰的ASML一直是当之无愧的王者，凭借其先进的极紫外光(EUV)光刻机时代，在大家高端光刻机市集上占据主导地位，险些把持了7nm及以下先进制程芯片的出产。此外，佳能和尼康也在积极布局，试图在光刻机领域保有弹丸之地。

跟着俄乌战役的纠缠，泰西的新一轮制裁加重了俄罗斯的缺“芯”程度，加快了俄罗斯自建独处芯片产业的决心和过程。因此，光刻机成为了俄罗斯要点存眷的焦点，辛勤在这一要害时代领域罢了自主可控。

俄罗斯光刻机发展历程回首

面对西方国度的时代紧闭，尤其是ASML等光刻设备供应商的出口禁令，俄罗斯政府制定了宽阔的芯片产业发展蓝图，旨在通过普及原土化出产才能，减少对外部时代的依赖。

这一计谋办法在2024年取得了内容性的恶果，即首台350nm光刻机的问世，意味着俄罗斯在半导体产业链上上前迈进了一大步。

但俄罗斯首台光刻机的出生并非一蹴而就，而是履历了长久的时代麇集和鼓动。

实验上，早在上世纪70年代，那时的苏联就依然掌捏了EUV影相光刻的时代。即使在苏联解体后，俄罗斯的科学家们也一直在该领域沉默栽植，为"EUV光刻机"的要害时代开发作念出了首要孝顺。

事实上，EUV光刻机领有三大中枢时代——光源、投影物镜、工件台。其中最大的难点在于光源，俄罗斯恰是这一领域的杰出人物。

海外光源三巨头除了德、日，另一个便是俄罗斯的圣光机。荷兰ASML筹划EUV光刻机时就使用了俄方时代，比如早期筹划的光源表面来自俄罗斯科学院，同期俄罗斯向其提供了大齐的光学器件。直到今天，ASML还和俄科院光谱学筹划所（ISAN）仍保持着密切融合，在EUV光源产物上，就连英特尔、台积电齐离不开俄方融合。

此外，俄罗斯科学院的微结构物理筹划所还为荷兰开发了多层镜制造时代，这在那时算得上是一个了不得的竖立。

除了光源，在责任台方面俄方也有“后台”。白俄罗斯的Planar是东欧最大的半导体公司，其总司理曾暗示：“全天下唯有两家公司简略出产聪慧度高达06-0.15nm的传感器，一家来自好意思国，另一家便是咱们。”

从以上梳理不丢脸出，俄罗斯在EUV光刻光源中枢时代上，委果依然领有了一定基础，相关科研机构在ASML所动员起来的泛欧EUV攻关收聚会有着长久而真切的参与。

天然不行否定，其各项时代产业化水平还不高，更多停留在基础筹划和样件试制阶段，在作念出自主研发EUV光刻机的决策后，把表面落实到工程无疑还有很长的路要走，不外俄罗斯的努力，依然值得咱们密切存眷与鉴戒。

时候来到2010年，彼时的ASML依然将第一台预出产的极紫外（EUV）光刻机出货，而这时俄罗斯一个物理筹划所IPM也正在研发极紫外光刻机的系统和原件，以致依然弄出来了装配原型的搭建。关联词，俄罗斯的这个技俩还在布局阶段就依然宣告收尾了。

情理其实很粗浅，首当其冲地便是西方国度对俄罗斯实施的时代禁运和制裁，无疑会给他们的研发带来清贫。尤其是俄乌冲突爆发以来，好意思国连结欧洲国度对俄罗斯实施了全场合、全领域的制裁。一个国度基本无法单独研发EUV光刻机，而ASML之是以能完成，是因为它背后是全天下供应商的同心一力。

关联词，在靠近海外制裁和时代紧闭的继续影响下，尽管俄罗斯在光刻机领域受到重重羁系，但依旧莫得罢手探索的要领。

“朝阳”初现，获胜推出350nm光刻机

多年来，通过国度实验室和科研机构的撑持，俄罗斯光刻设备制造企业通过不停攻克要害时代难题，渐渐罢了了一系列打破。

2022年，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德行使物理筹划所 (IPF RAS) 晓示，正在开发俄罗斯首套半导体光刻设备，并对外夸下海口：这套光刻机简略使用7nm出产芯片，可于2028年全面投产。

那时，IPF RAS筹办在六年内打造出俄罗斯自产7nm光刻机的工业样机，2024 年将创建一台“Alpha机器”，2026创建"测试机"，2026-2028年俄罗斯原土光刻机将获取更顽强的辐照源，改进的定位和进给系统，并将启动全面的责任，2028年，这些设备全面运行。

时隔两年，俄罗斯诚然距离2028年自产7nm光刻机的“海口”距离尚远，但这一开心已初现朝阳。2024年5月，俄罗斯联邦工业和生意部副部长瓦西里·什帕克（Vasily Shpak）阐发，第一台能出产最大350nm（行业惯称0.35μm）芯片的光刻机已获胜拼装并进入测试阶段，绚丽着俄罗斯在芯片制造领域取得内容性打破。

俄罗斯接下来的办法是在2026年制造不错撑持130nm工艺的光刻机。再下一步，俄罗斯将络续渐渐向90nm及以下迈进。

尽管相较于面前大家主流的先进水平，如5纳米、7纳米工艺，俄罗斯的这一恶果尚显逾期，但其在特定领域仍具有实验行使价值。尤其是对俄罗斯而言，350nm芯片虽不如当代顶端产物先进，但足以得志汽车、动力、电信等特定行业需求，且成本效益高，出产周期短，踏实性经时候检修。

这也绚丽着俄罗斯在追求半导体产业自主性方面迈出了一大步。在大家半导体供应链病笃、地缘政事复杂多变的配景下，这项竖立为俄罗斯减少对外部时代的依赖提供了可能。

电子工程天下对此有报谈指出，350nm（0.35μm）出生于1995年，面前依然领有产物行使，主如果一些不太刚需制程的特色工艺产物，比如模拟芯片、功率半导体、传感器或者低端MCU、军工产物。

看成对比，半导体制程工艺发展史粗浅总结如下：

1971年，10μm工艺是那时最高工艺，代表芯片是Intel 1103 DRAM、4004 CPU（1971）、8008 CPU（1972）;

1974年，步入6μm工艺，大名鼎鼎的Intel 8080便接受这一制程；

1977年，3μm工艺开启元年，从此x86处理器Intel 8086（含8085、8088）负责出生；

1982年 1.5μm工艺用在Intel 80286上，1985年 1μm工艺用在Intel 80386上，1989年，0.8μm工艺用在Intel 80486上；

1995年，0.35μm（也便是350nm）工艺开启元年，Pentium P54CS、IBM P2SC（1996）、IBM POWER3（1998）齐接受了这一工艺；

1997年，主节点为0.25μm工艺，启动引入海外半导体时代阶梯图（ITRS）主节点和半节点界说，即：1998年半节点220nm工艺，1999年主节点0.18μm工艺（180nm），2000年半节点150nm工艺；

2001年，130nm是那时的主节点，典型芯片是130nm的奔腾3处理器，2002年半节点为110nm工艺；

2004年，步入90nm元年，英特尔、英飞凌、德州仪器、IBM、联电和台积电基本齐能达到90nm，典型芯片包括90nm的奔腾4处理器；

2012年，制程步入22nm阶段，此时英特尔，联电，联发科，格芯，台积电，三星等厂商齐具备出产才能；

2015年联电留步于14nm，2017年英特尔卡在了10nm，2018年格芯毁灭7nm，此时先进制程的战场只剩下台积电和三星；

2019年6nm量产导入，2020工艺5nm启动量产，而国内也启动量产14nm芯片；

2024年，跟着英特尔启动再行喜欢制程时代，英特尔、台积电、三星正在争夺2nm的先发地位。

俄罗斯工业和生意部并不合计莫得掌捏更先进的工艺有什么问题，Vasily Shpak认为，<45nm的工艺只对处理器和存储器挑升念念，而这些只占10-15%。而统统其他微电子器件，包括微收尾器、电力电子器件、电信电路、汽车电子以及许多其他器件，因为时代和成本的原因，将在将来许多年内对65-350nm的工艺保持需求，况且占市集的60%。

关于现阶段的俄罗斯来说，这台光刻机的问世不仅不错使其一定程度解脱西方制裁，更赐与了俄罗斯国内极大的信心，将来将大幅减少对外依赖。

俄罗斯光刻机，再曝新进展

关于高端光刻机攻关，不少东谈主抱有着一种朴素的信念：既然ASML依然解说了LPP-EUV时代阶梯走得通，就好像总共别东谈主依然解出来的难题，看成亦步亦趋的自后者只消资源插足弥漫多，再复杂的工程问题也总能处罚。

这么的想法，确乎在大部分情况下齐是蛊卦的，学习消化再窜改的效果无用置疑。但与此同期，集成电路、工业软件、量测仪器等领域存在的“卡脖子”征象足以领导咱们，某些关于基础表面麇集要求很高的步骤，“表面不够，工程来凑”也有其局限性，旨趣理会不充分的情况下，工程成本、进程乃至最褪色果将靠近巨大省略情趣。

深谙此谈的俄罗斯，依托其在高能激光、等离子体物理基础筹划上的麇集，在光刻机研发上聘请了一条颇具特色和“章法”的新路。

据cnews近日音问报谈，俄罗斯科学院微结构物理筹划所（IPM RAS）建议了一项新筹办，旨在制造比荷兰ASML公司更经济、更高效的光刻机。

据先容，该光刻机旨在打造“高性能X射线光刻发展新主意”，俄罗斯聘请不统统复制ASML的时代阶梯，而是开发责任波长为11.2nm的新式光刻设备，而非ASML的13.5nm，以镌汰研发成本并简化制造历程，并将设备的分辨率提高20%。

俄罗斯有浩繁机构，在参与这项复杂远大的技俩

此外，IPM RAS筹办用氙代替锡看成激光等离子光源，这将权贵减少光学元件的耻辱，并蔓延崇高零部件如反射镜和保护膜的使用寿命。

该筹办分为三个阶段：

第一阶段：时代打破

进行科学筹划与工程想象，处罚要害时代难题，建议雠校时代处罚决策的建议。

制定融合框架和设备清单，为后续阶段奠定基础。创建光刻实验样本，以测试信得过时代历程中的统统元素，开发抗蚀剂并开发使用 X 射线光刻酿成纳米结构的时代。

NCFM参与了波长为11.2nm的光刻机的开发（来自NCFM演示的框架）

第二阶段：实验考据

制造用于测试的实验性光刻设备，并整合X射线光刻时代。

集成高效多镜头投影系统和多千瓦激光器，用于200/300毫米晶圆的工艺测试。

第三阶段：产业化

开发合乎工业行使的高性能光刻设备，筹办量产直径300毫米晶圆的设备，出产才能超每小时60片。

文献中莫得指定各个阶段的时候安排。

不外，CNews报谈了RAS行使物理筹划所于 2022 年 10 月启动进行光刻责任的情况。瞻望到2028年，该设备将全面运行，简略出产使用7nm拓扑的芯片，服从瞻望比ASML光刻机高1.5-2倍。

为了撑持这一技俩，俄罗斯科学院依然向其提供了约100亿卢布的信贷撑持，并资助了两家企业，永别是在集成电路成套工艺方面起原的Integral公司和在精密光刻设备领域领有丰富申饬的Planar公司。

此前，俄罗斯政府启动了一项国度筹办，俄罗斯工业和生意部在2023年10月建议了一份阶梯图。证据该阶梯图，俄罗斯将在2028年启动量产28nm芯片，并在2030年启动出产14nm芯片，对尽可能多的番邦芯片进行逆向工程，并培养原土着才从事国产芯片替代责任。

同期，据俄罗斯媒体征引俄新社报谈，圣彼得堡理工大学的筹划东谈主员开发了一种国产光刻复合体，包括两个设备，一个是在基板上进行无掩膜的光刻装配，另一个是硅的等离子体化学蚀刻设备。

该设备的成本令业界诧异，用于无掩膜光刻的设备成本仅为500万卢布（约合36.6万东谈主民币），另一种用具的成本暂未公开。要知谈，一台ASML的DUV价钱是8000万好意思元（约合东谈主民币5.8亿元），而EUV价钱更是高达1.9亿好意思元（约合东谈主民币12亿元）。价钱悬殊可谓巨大。

从时代念念路上来评价，接受无掩膜光刻，意味着物镜系统不错得到很大简化，EUV光反射次数更少，损耗天然更小，连带着对光源输出功率的要求也不错放宽，因此不管聘请锡源的传统决策如故氙源窜改决策，至少ASML在普及光源功率和可窜改性上奢靡的天量资金、十余年时候以及麇集的大齐独家knowhow有但愿被绕开。

MEMS微镜调制的图案只需三片反射镜就简略投影于晶圆

这一研发恶果关于俄罗斯芯片的自食其力至关首要，圣彼得堡理工大学的内行暗示，这将使“处罚俄罗斯在微电子领域的时代主权问题”成为可能。

俄罗斯开发的全新EUV光刻机，将筹办使用X射线时代，不需要光掩膜就能出产芯片（面前ASML的EUV光刻机使用的是极紫外光）。

与传统光刻时代比较，X射线光刻机不管是在经济成本如故时候成本方面，这项时代齐低廉得多，因为传统光刻时代需要使用专门的光掩膜来获取图像。而X射线光刻机则不需要光掩膜，不错直写光刻，因此精炼了一大笔用度。

此外，X射线光刻机使用的X射线，波长介于0.01nm到10nm之间，比EUV极紫外光还要短，因此光刻分辨率要高好多。

将来俄罗斯光刻机与现存ASML光刻机的特色对比

该表将ASML制造的TWINSCAN NXE:3600D 光刻机的主要参数与IPM RAS正在开发的光刻机的预期参数进行了比较。不错看出，平均激光功率为3.6 kW，波长11.2nm下的预期性能将比ASML光刻机低约2.7倍。

有内行指出，“关于非头部工场来说，这个值依然弥漫了，探讨到芯片上的统统层中，X射线光刻仅用于几个要害层的酿成。因此，这一主意的获胜实施将罢了在不糟跶分辨率的情况下提高用户X射线光刻的可及性的办法。”

事实上，早在2022年4月，俄罗斯媒体就报谈称，莫斯科电子时代学院 (MIET)连结了贸工部开发制造芯片的光刻机技俩，该技俩由俄罗斯政府首期投资6.7亿卢布资金（约合5100万元东谈主民币）。研发的光刻机筹办达到EUV级别，但时代旨趣与ASML的EUV统统不同，是基于“同步加快器和/或等离子体源”的无掩模X射线光刻机。

2023年3月，俄罗斯科学院微结构物理筹划所多层X射线光学系主任Nikolai Ivanovich Chkhalo在会上发表了一份证明“EUV光刻：俄罗斯发展的原则、近况和阶梯图”。在回应相关推行经典EUV光刻和无掩模光刻的问题时，Nikolai IvanovichChkhalo暗示，在俄罗斯面前的筹划框架和才能范围内，创造出MEMS振镜是不行能完成的任务。尽管进行了十年的筹划，但仍无司法东谈主幽静地开发该时代。另一个时代场合——四百层X射线透镜——俄罗斯有可能创建它。

尽管领有上风，但X射线设备的出产才能和服从与ASML的机型比较仍显不及，不外在特定场景或小畛域芯片出产中具有实用性。

俄罗斯科学院微结构物理筹划所副长处尼古拉·奇卡洛暗示，看成光刻时代的大家带领者，ASML已研发其EUV光刻系统近20年，该时代已被解说相等复杂。况且，晶圆设备不仅限于光刻机，还需要有其他类型的设备用于实施蚀刻、千里积、光刻胶去除、计量以及搜检操作，此外还有一些不太先进的设备，这些大部分齐来自于西方市集。

也便是说，即使俄罗斯获胜制造出光刻机，仍需要数百台设备来建造一座当代化晶圆厂，而面前西方依然澈底割断了对俄罗斯的供应。但不管若何，俄罗斯为了罢了半导体产业自主可控，起原加大了对光刻机领域的插足和撑持，尽管面前350nm的工艺并不先进，但关于此时的俄罗斯来讲依然相等首要了。

俄罗斯在光刻机时代领域诚然靠近时代紧闭和东谈主才不及的挑战，但凭借国度政策的撑持、时代麇集和海外融合，渐渐在这一要害时代领域取得了进展。

将来，俄罗斯将络续加大对光刻设备时代的研发插足，努力罢了从中低端到高端设备的起原式发展。通过继续的窜改和正常的海外融合，俄罗斯有望在光刻机时代领域取得更大打破，为大家半导体产业的发展作出积极孝顺。

畴昔微电子霸主，能否重拾光泽？

苏联曾是天下上微电子时代最顽强的国度之一，以致一度起原好意思国。关联词，苏联解体后，大齐科研东谈主才赶赴好意思国，俄罗斯在经济衰退、政事不稳的模式下，微电子产业也渐渐走向雕残。

尽管如斯，以及多年来靠近西方制裁，包括资金不及和东谈主才匮乏等诸多窘境，俄罗斯并莫得就此摆烂，为了幸免时代受制于东谈主，这些年来依然在潜心搞研发，渴慕动须相应扭转风光。

尤其是在光刻时代上，俄罗斯决心通过窜改阶梯图来打破面前的困局，并但愿在2028年前完成研发责任。若这一进程获胜，俄罗斯可能会成为中微型芯片制造商的首要设备供应商为大家芯片出产提供新聘请，也为总共行业式样带来新的变化。

总体而言，面对卡脖子，俄罗斯对峙自主研发、别具肺肠的精神依然值得折服。俄罗斯这一光刻机的研发场合在时代上具有一定的窜改性，若能克服各项挑战，真实在X射线光刻时代上取得打破，将可能重写大家半导体产业的竞争态势。跟着芯片制造的需求不停增长，这一新兴市集关于时代自主权和性价比优化的要求也更加膺惩。

将来，俄罗斯有望在大家芯片制造竞争中占据弹丸之地，成为新兴市集的首要参赛者。俄罗斯绕开ASML的时代钳制，关于我国半导体产业的发展亦然一个启发。

但比较之下，我国科技界、产业界对俄罗斯的毅力，似乎还广博有所滞后。在一篇分析中俄科技窜改合气派险挑战的泰斗著作中，作家忧心性指出：“俄罗斯在基础筹划、核能时代、空间科学时代、新材料、生物时代等浩繁领域领有浑矫捷力并取得了令东谈主防备的获利，但我国某些产业界，以致科技界自己对俄罗斯科技水平齐衰败弥漫毅力和应有评价，存在贬抑俄罗斯科技实力而盲目发扬西方的倾向，在寻求科技融合伙伴时，往往优先探讨好意思、欧、日，对俄罗斯却不予喜欢，频频多方寻觅无果后才把见识转向俄罗斯，逗留了融合时机”。

值得防备的是，跟着俄乌冲突爆发，俄罗斯科技界正常的海酬酢流行为遭到了全面围堵打压，从奥数竞赛到学术会议，“将俄罗斯科学与海外融合遮掩的企图将响应在统统目的中”，当数百名俄罗斯科学家被从欧洲核子筹划中心（CERN）驱散，绚丽着这种歇斯底里的贬抑达到了极点。

但也恰是在这种刺激下，俄罗斯科学筹划与高时代产业发展，似乎正欣忭出新的气候，或者说，再行唤起一种民族的强硬韧性。在工业母机、要害软件等领域，俄罗斯国产替代责任业已全面铺开。

而光刻机，恰是这一波涛的小小缩影。

1.EDA365电子论坛：ASML慌了？俄自研7nm光刻机密来了，服从比ASML EUV高2倍，成本只需几十万

2.科技理会：证明解读| 俄罗斯光刻机时代技俩

3.心智不雅察所：俄罗斯，会比中国先造出EUV光刻机？

4.厚纪老本：俄罗斯推出首台光刻机：350nm

5.https://www.tomshardware.com/news/russian-researchers-develop-etching-tool-that-can-replace-litho-tools

6.https://www.cnews.ru/news/top/2023-10-03_rossiyane_sozdali_suverennyj

7.https://www.cnews.ru/book

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